Enovasense

Procesy chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD) powłok z węgla pirolitycznego i/lub węglików ceramicznych nadają podłożom grafitowym, kompozytowym, metalowym i ceramicznym bardzo wysokie parametry techniczne – dzięki naturze powłok, ale także ich specyficznej mikrostrukturze.

Kontrola grubości osadzonej warstwy jest więc w tych zastosowaniach niezbędna, zwłaszcza że w procesie CVD różnice grubości mogą być bardzo duże w obrębie jednego cyklu, jednej komory, a nawet między różnymi strefami tego samego detalu.

• Pomiar bezkontaktowy i nieniszczący
• Pomiar możliwy bezpośrednio po wyjęciu z pieca
• Bardzo szeroki zakres grubości (od 0,1 do 600 µm w zależności od zastosowania)
• Wysoka dokładność i powtarzalność
• Bardzo dokładna rozdzielczość przestrzenna
• Krótki czas pomiaru, około 1 sekundy
• Kompaktowy i lekki czujnik, łatwy do integracji w zautomatyzowanej kontroli detali złożonych lub wielkogabarytowych
• Wiele mierzalnych materiałów w jednym systemie